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Vakuumbeschichtung
Verfahren und Anlagen
Taschenbuch von Klaus Röll (u. a.)
Sprache: Deutsch

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Beschreibung
Schwerpunkte in Band 2 bilden das Aufdampfen im Hochvakuum, das Ionenplattieren, die Kathodenzerstäubung, teilchengestützte Verfahren, die Erzeugung von Mikrostrukturen, Plasmabehandlungsverfahren und die Abscheidung aus der Gasphase (CVD).
Schwerpunkte in Band 2 bilden das Aufdampfen im Hochvakuum, das Ionenplattieren, die Kathodenzerstäubung, teilchengestützte Verfahren, die Erzeugung von Mikrostrukturen, Plasmabehandlungsverfahren und die Abscheidung aus der Gasphase (CVD).
Inhaltsverzeichnis
1 Vakuumbeschichtungsverfahren - Übersicht.- 2 Bedeutung der Vakuumtechnik für die Beschichtungstechnik.- 2.1 Vorbemerkungen.- 2.2 Einfluß der Restgase auf die Schichtreinheit.- 2.3 Vakuumerzeugung.- 2.4 Vakuummessung.- 3 Aufdampfen im Hochvakuum.- 3.1 Vorbemerkungen.- 3.2 Physikalische Grundlagen.- 3.3 Anlagentechnik.- 4 Ionenplattieren.- 4.1 Einleitung.- 4.2 Ionenplattierungsprozeß.- 4.3 Anlagentechnik.- 4.4 Entwicklungsstand und Ausblick.- 5 Ionenzerstäubung von Festkörpern (Sputtering).- 5.1 Einführung.- 5.2 Beschreibung des Zerstäubungsprozesses.- 5.3 Plasmagestützte Zerstäubungsverfahren.- 5.4 Anlagentechnik.- 6 Teilchenstrahlgestützte Verfahren.- 6.1 Einleitung.- 6.2 Teilchenstrahlquellen.- 6.3 Anwendung niederenergetischer Ionen- und Plasmastrahlen.- 6.4 Teilchenstrahlunterstützte Beschichtung (IBAD).- 6.5 Ionenstrahlimplantation.- 6.6 Ionenstrahlmischen.- 7 Erzeugung von Mikrostrukturen an Oberflächen und dünnen Schichten.- 7.1 Plasmamethoden.- 7.2 Teilchenstrahlmethoden in ihrer Anwendung in der Lithographie.- 8 Plasmabehandlungsmethoden.- 8.1 Plasmadiffusionsverfahren.- 8.2 Pulsimplantation.- 9 Plasmaspritzen.- 9.1 Vorbemerkungen.- 9.2 Funktionsprinzip des Plasmaspritzens.- 9.3 Verfahrensvarianten.- 9.4 Anlagentechnik.- 10 Abscheidung aus der Gasphase.- 10.1 Physikalisch-chemische Grundlagen.- 10.2 Produktionssysteme für CVD-Prozesse.- 10.3 Modifizierung des Beschichtungsprozesses durch ein Plasma.- 10.4 Modifizierung der Gasphase durch Photo-CVD.- 10.5 Plasmapolymerisation.- Literatur.- Sachwortverzeichnis.- Autorenverzeichnis.
Details
Erscheinungsjahr: 2012
Fachbereich: Fertigungstechnik
Genre: Technik
Rubrik: Naturwissenschaften & Technik
Medium: Taschenbuch
Seiten: 500
Reihe: VDI-Buch
Inhalt: xiii
481 S.
123 s/w Illustr.
ISBN-13: 9783642633980
ISBN-10: 3642633986
Sprache: Deutsch
Ausstattung / Beilage: Paperback
Einband: Kartoniert / Broschiert
Redaktion: Röll, Klaus
Kienel, Gerard
Herausgeber: Gerard Kienel/Klaus Röll
Auflage: Softcover reprint of the original 1st ed. 1995
Hersteller: Springer-Verlag GmbH
Springer Berlin Heidelberg
VDI-Buch
Maße: 244 x 170 x 27 mm
Von/Mit: Klaus Röll (u. a.)
Erscheinungsdatum: 14.10.2012
Gewicht: 0,854 kg
preigu-id: 105988405
Inhaltsverzeichnis
1 Vakuumbeschichtungsverfahren - Übersicht.- 2 Bedeutung der Vakuumtechnik für die Beschichtungstechnik.- 2.1 Vorbemerkungen.- 2.2 Einfluß der Restgase auf die Schichtreinheit.- 2.3 Vakuumerzeugung.- 2.4 Vakuummessung.- 3 Aufdampfen im Hochvakuum.- 3.1 Vorbemerkungen.- 3.2 Physikalische Grundlagen.- 3.3 Anlagentechnik.- 4 Ionenplattieren.- 4.1 Einleitung.- 4.2 Ionenplattierungsprozeß.- 4.3 Anlagentechnik.- 4.4 Entwicklungsstand und Ausblick.- 5 Ionenzerstäubung von Festkörpern (Sputtering).- 5.1 Einführung.- 5.2 Beschreibung des Zerstäubungsprozesses.- 5.3 Plasmagestützte Zerstäubungsverfahren.- 5.4 Anlagentechnik.- 6 Teilchenstrahlgestützte Verfahren.- 6.1 Einleitung.- 6.2 Teilchenstrahlquellen.- 6.3 Anwendung niederenergetischer Ionen- und Plasmastrahlen.- 6.4 Teilchenstrahlunterstützte Beschichtung (IBAD).- 6.5 Ionenstrahlimplantation.- 6.6 Ionenstrahlmischen.- 7 Erzeugung von Mikrostrukturen an Oberflächen und dünnen Schichten.- 7.1 Plasmamethoden.- 7.2 Teilchenstrahlmethoden in ihrer Anwendung in der Lithographie.- 8 Plasmabehandlungsmethoden.- 8.1 Plasmadiffusionsverfahren.- 8.2 Pulsimplantation.- 9 Plasmaspritzen.- 9.1 Vorbemerkungen.- 9.2 Funktionsprinzip des Plasmaspritzens.- 9.3 Verfahrensvarianten.- 9.4 Anlagentechnik.- 10 Abscheidung aus der Gasphase.- 10.1 Physikalisch-chemische Grundlagen.- 10.2 Produktionssysteme für CVD-Prozesse.- 10.3 Modifizierung des Beschichtungsprozesses durch ein Plasma.- 10.4 Modifizierung der Gasphase durch Photo-CVD.- 10.5 Plasmapolymerisation.- Literatur.- Sachwortverzeichnis.- Autorenverzeichnis.
Details
Erscheinungsjahr: 2012
Fachbereich: Fertigungstechnik
Genre: Technik
Rubrik: Naturwissenschaften & Technik
Medium: Taschenbuch
Seiten: 500
Reihe: VDI-Buch
Inhalt: xiii
481 S.
123 s/w Illustr.
ISBN-13: 9783642633980
ISBN-10: 3642633986
Sprache: Deutsch
Ausstattung / Beilage: Paperback
Einband: Kartoniert / Broschiert
Redaktion: Röll, Klaus
Kienel, Gerard
Herausgeber: Gerard Kienel/Klaus Röll
Auflage: Softcover reprint of the original 1st ed. 1995
Hersteller: Springer-Verlag GmbH
Springer Berlin Heidelberg
VDI-Buch
Maße: 244 x 170 x 27 mm
Von/Mit: Klaus Röll (u. a.)
Erscheinungsdatum: 14.10.2012
Gewicht: 0,854 kg
preigu-id: 105988405
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