Das Designrecht ist in seiner Anwendung von der Rechtsprechung geprägt und dabei nicht immer frei von Widersprüchen. Es erfordert ein tiefergehendes Verständnis der Entstehung und Nutzung von Gestaltungen, insbesondere wenn diese eine technische Funktion haben. Kritische Hinterfragungen und neue Argumentationslinien sind rar.

Der neue Handkommentar
Der HK-DesignG stößt in diese Lücke. Er geht den entscheidenden designrechtlichen Fragen unvoreingenommen auf den Grund. Er dreht argumentativ bildlich gesprochen jeden Stein um und kommt so zu neuen Argumenten, auch bei scheinbar ausjudizierten Themenstellungen. Mit seiner schutzfreudigen Ausrichtung löst er alltägliche Beratungsfragen ebenso wie hochkomplexe und auch unbekannte designrechtliche Sachverhalte - z.B. zum 3D-Druck oder zu künstlicher Intelligenz - rechtssicher.

Seine Vorzüge
• kommentiert die designrechtlichen Vorschriften mit großer Detailtiefe (z.B. Schutzausschluss wegen technischer Bedingtheit, Schutzumfang im Vergleich zwischen deutscher und europäischer Rechtsprechung)
• hinterfragt begründungsstark Argumentationslinien (z.B. Kriterien der Musterdichte und des Abstandes vom vorbekannten Formenschatz)
• stellt bislang wenig beachtete Zusammenhänge her (z.B. Designs als Forschungsergebnisse von Hochschulen, Vergütungen von Designleistungen)
• vermittelt, soweit erforderlich, auch das technische Hintergrundwissen (z.B. 3D-Druck, Verständnis technischer Schutzrechte)

Praxisnah
• Mit allen Unterschieden zur Gemeinschaftsgeschmacksmusterverordnung (GGV)
• Durchgängig: taktische Erwägungen, Abbildungen von Designs, Musterformulierungen und Checklisten
• Topaktuelle Schwerpunkte, z.B. Schutz von Designs als Geschäftsgeheimnisse, Künstliche Intelligenz, 3D-Druck

Herausgeber- und Autorenschaft
Herausgegeben wird das Werk von Rechtsanwältin und Dozentin Dr. Sabine Zentek und Patentanwalt Dipl.-Ing. Hans Joachim Gerstein, LL.M., beide langjährig im Designrecht tätig.
Autorinnen und Autoren:
Julia Dönch, M.A., Rechtsanwältin, Düsseldorf | Prof. Dr. Tim W. Dornis, J.S.M., Universität Hannover | Dr. Patrick Fromlowitz, LL.M., Rechtsanwalt, Hamburg | Dipl.-Ing. Hans Joachim Gerstein, LL.M., Patentanwalt, Hannover | Dr. Ralf Hackbarth, LL.M., Rechtsanwalt, Fachanwalt für Gewerblichen Rechtsschutz, München | Hanna Karin Held, Rechtsanwältin und Fachanwältin für Gewerblichen Rechtsschutz, Köln | Dr. Philipe Kutschke, Rechtsanwalt und Fachanwalt für Gewerblichen Rechtsschutz, München | Eva Maierski, Rechtsanwältin, Berlin | Charlotte Reimers, B.A., Rechtsanwältin, Hamburg | Dr. Elisabeth Stöve, Vorsitzende Richterin am LG Düsseldorf | Prof. Dr. Clemens Thiele, LL.M. Rechtsanwalt, Salzburg | Dr. Gabriel Wittmann, Rechtsanwalt, München | Dr. Sabine Zentek, Rechtsanwältin, Fachanwältin für Urheberrecht und Medienrecht, Herdecke.