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Beschreibung
Für die Weiterentwicklung der EUV-Lithographie werden kompakte und langzeitstabile EUV-Strahlungsquellen für Forschungs- und Entwicklungsarbeiten benötigt. In dieser Arbeit wird eine EUV-Strahlungsquelle auf Basis einer Gasentladung - dem hohlkathodengetriggerten Pinchplasma - bezüglich der im Langzeitbetrieb relevanten Einflussfaktoren untersucht. Signifikante Verbesserungen der Leistungsfähigkeit werden demonstriert und ein technologischer Ausblick vorgestellt.
Für die Weiterentwicklung der EUV-Lithographie werden kompakte und langzeitstabile EUV-Strahlungsquellen für Forschungs- und Entwicklungsarbeiten benötigt. In dieser Arbeit wird eine EUV-Strahlungsquelle auf Basis einer Gasentladung - dem hohlkathodengetriggerten Pinchplasma - bezüglich der im Langzeitbetrieb relevanten Einflussfaktoren untersucht. Signifikante Verbesserungen der Leistungsfähigkeit werden demonstriert und ein technologischer Ausblick vorgestellt.
Details
| Genre: | Technik allg. |
|---|---|
| Rubrik: | Naturwissenschaften & Technik |
| Medium: | Taschenbuch |
| ISBN-13: | 9783863598594 |
| ISBN-10: | 3863598598 |
| Sprache: | Deutsch |
| Ausstattung / Beilage: | Großformatiges Paperback. Klappenbroschur |
| Autor: | Vieker, Jochen |
| Hersteller: | Apprimus Verlag |
| Verantwortliche Person für die EU: | preigu GmbH & Co. KG, Lengericher Landstr. 19, D-49078 Osnabrück, mail@preigu.de |
| Maße: | 210 x 148 x 9 mm |
| Von/Mit: | Jochen Vieker |
| Gewicht: | 0,283 kg |