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Beschreibung
Für die Weiterentwicklung der EUV-Lithographie werden kompakte und langzeitstabile EUV-Strahlungsquellen für Forschungs- und Entwicklungsarbeiten benötigt. In dieser Arbeit wird eine EUV-Strahlungsquelle auf Basis einer Gasentladung - dem hohlkathodengetriggerten Pinchplasma - bezüglich der im Langzeitbetrieb relevanten Einflussfaktoren untersucht. Signifikante Verbesserungen der Leistungsfähigkeit werden demonstriert und ein technologischer Ausblick vorgestellt.
Für die Weiterentwicklung der EUV-Lithographie werden kompakte und langzeitstabile EUV-Strahlungsquellen für Forschungs- und Entwicklungsarbeiten benötigt. In dieser Arbeit wird eine EUV-Strahlungsquelle auf Basis einer Gasentladung - dem hohlkathodengetriggerten Pinchplasma - bezüglich der im Langzeitbetrieb relevanten Einflussfaktoren untersucht. Signifikante Verbesserungen der Leistungsfähigkeit werden demonstriert und ein technologischer Ausblick vorgestellt.
Details
Genre: Technik allg.
Rubrik: Naturwissenschaften & Technik
Medium: Taschenbuch
ISBN-13: 9783863598594
ISBN-10: 3863598598
Sprache: Deutsch
Ausstattung / Beilage: Großformatiges Paperback. Klappenbroschur
Autor: Vieker, Jochen
Hersteller: Apprimus Verlag
Verantwortliche Person für die EU: preigu GmbH & Co. KG, Lengericher Landstr. 19, D-49078 Osnabrück, mail@preigu.de
Maße: 210 x 148 x 9 mm
Von/Mit: Jochen Vieker
Gewicht: 0,283 kg
Artikel-ID: 118381202

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